2022年近代测试技术知识点总结 .pdf

个人资料整理仅限学习使用1、X射线衍射分析XRD ：X-ray diffraction ）X射线衍射分析主要用于物相分析和晶体结构的测定。它所获取的所有信息都基于材料的结构。 X射线和光相同，是一种电磁波，显示波-粒二相性，但波长较光更短一些。X射线的波长范围0.001-100nm。连续 X射线按量子理论，当能量为eV的高速的电子撞击靶中的原子时，电子失去自己的能量。其中大部分转化为热能。一部分以光子X 射线）的形式幅射出。每撞击一次就产生一个能量为hv的光子。由于单位时间内到达靶表面的电子数量很多，但大多数电子还经过多次碰撞，因此，各个电子的能量各不相同，产生的X射线的波长也就不同。于是产生了一个连续的X射线谱。其中少数电子在一次碰撞中就将能量全部转化为光子，因此它产生的光子能量最大，波长最小。 其短波限 0 取决于能量最大电子，并与管压有关。由于 X射线的强度取决于光子的数目。所以连续X射线谱的最大值不在0 的位置。短波限特征 X射线谱高能电子把原子的内壳层电子打出，使原子电离，外壳层电子向内壳层电子跃迁，跃迁的能量差转化为一个X射线的光子。由于对一定种类的原子，各层能量是一定的，频率不变，具有代表原子特征的固定波长，故称为特征X射线。特征谱的波长不受管压和管流的影响，只决定于阳极靶材的原子序数。对一定材料的阳极靶，产生的特征谱的波长是固定的，此波长可作为阳极靶材的标志或特征。特征X射线的辐射强度随管压U和管流 i的增大而增大不同靶材的同名特征谱线，其波长 随靶材原子序数Z的增大而变短- 莫塞莱定律吸收限的应用Z样品应当避免使用比样品中的主元素的原子序数大2-6(尤其是 2的材料作靶材的X射线管。实际工作中最常用的是Cu及Fe和 Co靶的管。 Cu靶适用于除 Co、Fe、Mn 、Cr等元素为主的样品。EG：铁为主的样品，选用Co靶,不选用 Ni或Cu靶。滤光片的选择利用吸收限两边吸收系数相差十分悬殊的特点，可制成X射线滤光片。K系特征谱线包括K和K 两条线，如果选择适当的材料，使其K吸收限波长 k正好位于所用的 K和K的波长之间，通过强烈吸收K线，而对 K线吸收很少，从而获得单色K辐射。滤波片的材料依靶的材料而定。一般采用比靶材的原子序数小1或2的材料。当Z靶 40时，Z滤=Z 靶-1 当Z靶40 时， Z滤 =Z靶-2 EG：铜靶的滤光片一般选Ni和Co。波产生干涉的条件：振动方向相同，波长相同、位相差恒定，即它们是相干的。相长干涉：当波程差为波长的整数倍, n 时，两个波相互加强。相消干涉：当波程差为半波长的奇数倍，(n+1/2 时，二者刚好精选学习资料 - - - - - - - - - 名师归纳总结 - - - - - - -第 1 页，共 7 页个人资料整理仅限学习使用相互抵消。X射线也是一种电磁波，当它照射晶体时，晶体中的质点对入射X射线产生相干散射。这些散射波满足波产生干涉的条件。X射线在晶体中衍射的本质 是晶体中各原子散射波之间的干涉结果。布拉格方程 2dsin =nn称反射级数。 角称掠过角或布拉格角。布拉格方程的意义：当 X射线照射到晶体上时，若入射X射线与晶体中某个晶面 之间的夹角满足布拉格方程，在其反射线的方向上就会产生衍射线。布拉格方程简明地指出了X射线衍射的方向。其现象相似于光的镜面反射。故常把X射线的衍射称为 X射线反射。物相分析 物相分析是指确定物质材料）由哪些相组成即物相定性分析或称物相鉴定）和确定各组成相的含量的衍射花样与之对照，从而确定物质的组成相，这就是物相定性分析的基本原理与方法。定量分析的任务是确定物质(样品 中各组成相的相对含量。例： Mgcl2 粉磨前后晶粒的变化用X射线衍射仪摄取MgCl2样品经 9h球磨前后的衍射图，用CuK 线=0.154nm,样品 003晶面布拉格角 =7.5 ， 110晶面布拉格角 =25.1 ,研磨前样品 003衍射峰半宽度为0.4 ，110衍射峰半宽度0.6 ，研磨后样品 003衍射峰半宽度为1.1 ，110衍射峰半宽度1.0 。根据谢乐公式：D0.9 /( 0cos 003晶面衍射： 0 1.1 - 0.4 =0.7 =0.01222 弧度D003(0.9*0.154/(0.01222*cos7.5=11.5nm 同理 110晶面衍射： D11022.0nm 可见，经球磨后晶粒大小的平均值为：C轴为 11.5nm；垂直与 C轴 22.0nm 晶粒为扁平椭球状2核磁共振 (NMR ，Nuclear Magnetic Resonance, 核磁共振是一种用来研究物质的分子结构及物理特性的光谱学方法。所谓核磁共振就是处于某个静磁场中的原子核受到相应频率电磁波作用时，在它们的磁能级之间发生的共振跃迁现象。某些原子核可在磁场中产生能级分裂，用无线电波照射时，原子核发生共振跃迁，记录电磁波被吸收的位置和强度核磁共振波谱。最常用的为1H 和13C谱，其他还有19F,31P和15N。核磁共振条件 来对抗外加磁场，此磁场与外加磁场(H0 方向相反。从而使原子核感受到一个比外加磁场小的磁场 (H0+He 。此一现象我们称做化学位移作用或屏敝作用。电子对核的这种作用叫做屏蔽作用。化学结构不同的质子外层电子云分布不一样，因而受到的屏蔽作用也会不一样，因此质子实际受到的磁场强度为： 为此核的屏蔽常数，它反映核外电子对核的屏蔽作用的大小，也就是反映了核所处的化学环境。不同的同位素的旋磁比 相差很大，但 均远远小于 1。化学位移的定义：由于外场不同，共振频率也不同，有必要用与场强无关的数值来表示，因此设定： 为待测峰与标准物的相对距离频率）， 标为标准物的共振频率 是一个无单位的参数，用ppm来表示偶合常数 ：由自旋偶合产生的分裂谱线间距称为偶合常数J，以 Hz为单位，它反映了核之间偶合作用的强弱。偶合作用是通过成键电子对间传递的，偶合常数的大小和两个核在分子中相隔化学键的数目密切相关，故在J的左上方标以两核相距的化学键数目。3电子显微镜光学显微镜可以分辨微M范围 10-6m）的物体；电子显微镜和扫描探针显微镜可以分辨纳M SEM与电子探针 EPMA ）的功能和结构基本相同，但SEM 一般不带波谱仪 分辨率分辨率是扫描电镜最主要的一项性能指标。通常是测量在特定条件下拍摄的图像上两亮点之间最小暗间隙的宽度，除以放大倍数，即可得出扫描电镜的分辨率。3景深 SEM景深很大，成像富有很强的立体感。景深F取决于扫描电镜的分辨率d0和电子束入射半角 a：扫描电子显微镜的几种电子像分析像衬原理电子像明暗程度取决于电子束的强弱，当两区域中电子强度不同时将出现图像的明暗差异，这种差异就叫衬度。SEM可以通过样品上方的电子检测器检测到具有不同能量的信号电子有背散射电子、二次电子、吸收电子、俄歇电子等。B电子探针 X射线显微分析仪简称电子探针(EPA或EPMA ，electron probe microanalysis电子探针分析 就是利用电子轰击待研究的试样来产生X射线，根据 X射线中谱线的波长和强度鉴别存在的元素并算出其含量。电子探针是利用0.5 m 1m 的高能电子束激发所分析的试样，通过电子与试样的相互作用产生的特征X 射线、二次电子、吸收电子、背散射电子及阴极荧光等信息来分析试样的微区内( m 范围内成份、形貌和化学结合状态等特征。电子探针所分析的元素范围一般从硼(B铀 (锂(Li 和铍 (Be虽然能产生 X射线，但产生的特征X射线波长太长，通常无法进行检测。它能将微区化学成份与显微结构对应起来，是一种显微结构的分析。电子探针除了用电子与试样相互作用产生的二次电子、背散射电子进行形貌观察外，主要是利用波谱或能谱，测量入射电子与试样相互作用产生的特征X射线波长与强度，从而对试样中元素进行定性、定量分析。定性分析： 用X射线谱仪在有关谱线可能出现的波长范围内把谱线纪录下来。然后对照波长表。由莫塞莱定律：(K 为常数， 为屏蔽系数 。如果用 X射线波谱仪测量电子激发试样所产生的特征X射线波长的种类，即可确定试样中所存在元素的种类，这就是定性分析的基本原理。定量分析： 把试样的 X射线强度与标样的对比，并作一些校正就可以算出分析点上的成分含量。电子探针是目前微区元素定量分析最准确的仪器。电子探针的检测极限(能检测到的元素最低浓度 一般为 2 精选学习资料 - - - - - - - - - 名师归纳总结 - - - - - - -第 4 页，共 7 页个人资料整理仅限学习使用3% ，对原子序数大于11的元素，含量在10% 以上的时，其相对误差通常小于2%。试样中 A元素的相对含量CA与该元素产生的特征X射线的强度 IA (X射线计数 成正比 :CAIA，如果在相同的电子探针分析条件下，同时测量试样和已知成份的标样中 A元素的同名 X射线 (如K线强度，经过修正计算，就可以得出试样中A元素的相对百分含量 CA:式中 CA为某 A元素的百分含量，K为常数，根据不同的修正方法 ,K可用不同的表达式表示，IA和I(A分别为试样中和标样中A元素的特征 X射线强度，同样方法可求出试样中其它元素的百分含量。电子探针显微分析的基础：1、特征 X射线谱： X射线谱是由于原子的内层电子能级之间跃迁产生的，为了使这种跃迁成为可能，必须逐出一个能层电子以产生一个空位。在电子探针分析中，所需要的内层能级电离是靠有足够动能的电子的轰击产生的。X射线谱的波长是发射元素独有的特征。2.内层电离：电子探针分析是靠电子轰击试样引起特征X射线的发射。为了使入射电子的能量超过某一壳层的“ 临界激发能量 ” ，探针一般使用1030kv 的加速电压。电子探针的构造与SEM大体相似，只是增加了接收记录X射线的谱仪。EPMA 使用的 X射线谱仪有波谱仪和能谱仪两类。C透射电子显微镜(TEM 可简称透射电镜TEM 用聚焦电子束 作照明源，使用对电子束透明的薄膜 试样，以透过试样的透射电子束 或衍射电子束 所形成的图像来分析试样内部的显微组织结构。透射电子显微镜 使用一个平行的高能电子束通过一片非常薄的试样而形成的图像。TEM 常见工作模式有两种，即成像模式和衍射模式：成像模式下，可得样品形貌、结构等信息；衍射模式下，可对样品进行物相分析。透射电镜的成像原理与光学显微镜类似。根本不同点在于光学显微镜以可见光作照明束，透射电子显微镜以电子为照明束。在光学显微镜中将可见光聚焦成像的是玻璃透镜，在电子显微镜中相应的为磁透镜 。制造高分辨本领的显微镜关键在于电子束用的透镜电子透镜。电子衍射与 X射线衍射异同相同点：电子衍射的原理和X射线衍射相似，是以满足或基本满足）布拉格方程作为产生衍射的必要条件。不同点： 1、电子波的波长比X射线短得多，在同样满足布拉格条件时，它的衍射角 很小，约为 10-2rad。而 X射线产生衍射时，其衍射角最大可接近 /2 。2、原子对电子的散射能力远高于它对X射线的散射能力约高出四个数量级），故电子衍射束的强度较大，摄取衍射花样时暴光时间仅需数秒钟。3、电子在试样中的穿透能力有限，只能用于研究微晶、表面和薄试样。4、由于电子在试样中发生多次衍射，电子束的强度不能被测量，因此利用电子衍射进行晶体学分析，只关心衍射斑点或衍射线的位置，而在X射线衍射分析中，衍射强度对晶体结构分析具有重要作用。电子透镜的像差像差分类 1、几何像差 -由透镜磁场几何上的缺陷产生的像差。球面像差；是透射电镜磁场中近轴区域与远轴区域对电子的折射能力不同而产生。一般总是远轴比近轴区域的折射能力大。一个理想的物点所散射的电子，经过具有球差的磁透镜后，不能会聚在同一像点上，而被分别会聚在一定的轴向距离上，无论像平面放在何位，都不能得到一个点的清晰图像，而只是在某个适当的位置，得到一个最小散射图-最小散焦斑。 目前，电磁透镜减小球差的唯一方法是采用小孔径光阑获得可能小的孔径半CA精选学习资料 - - - - - - - - - 名师归纳总结 - - - - - - -第 5 页，共 7 页个人资料整理仅限学习使用角，挡去高散射角电子，使参与成像的电子主要是通过磁场近轴区域的电子。像散；由于极靴加工精度、极靴材料内部结构和成分不均匀性影响磁饱和，导致场的非对称性，即由透镜磁场的非旋转对称而引起。像畸变；与球差类似，也是由于远轴区折射率过高而引起。主要发生在中间镜和投影镜。2、色差由于入射电子波长或能量）的非单一性所造成的。波长短的偏转较少，聚焦在后，波长长的偏转较大，聚焦在前。电子透镜的分辨本领和放大倍数在电子图像上能分辨开的相邻两点在试样上的距离r0两物点间的距离）-电镜的分辨本领。r0的大小取决于由衍射效应所产生的Airy 斑和由透镜像差所产生的最小散焦斑 的尺寸。在一定电子波长条件下，虽然增大孔径角可以减少Airy 斑尺寸，提高透镜的分辨率，但同时增大像差散焦斑尺寸，降低透镜的分辨本领。球差是限制电磁透镜分辨本领的主要因素，提高透镜分辨本领唯一可行的方法是采用尽可能小的孔径角成像。但孔径半角对衍射效应的分辨和球差造成的分辨率的影响是相反的。电磁透镜的景深和焦长1景深透镜物平面允许的轴像偏差。若偏离物平面的物点在像平面上所形成的失焦斑的尺寸等于或小于 r0，那么将不影响图像的分辨率。电磁透镜的景深大，对于图象的操作尤其是高放大倍数情况下）是非常有利的。2当透镜焦距和物距一定时，像平面在沿轴向移动时，也会发生失焦。如果所形成的失焦斑的尺寸等于或小于r0，也不会影响图像的分辨率。由衍射和像差产生的散焦斑尺寸r0所允许的像平面轴向偏差叫透镜的焦长 。像的分辨率、放大倍数和衬度是电镜的三要素。衬度：试样不同部位对入射电子作用不同，经成像放大后所显示的强度差异。像衬度是图像上不同区域明暗程度的差别。EG：假设样品由颗粒A、B组成，强度 I0入射电子照射样品，B的 (hkl 面与入射束满足布拉格方程，产生衍射束I，忽略其它效应吸收），其透射束为：IB=I0-I 晶粒 A与入射束不满足布拉格方程，其衍射束I=0 ，透射束 IA=I0若成明场像 IBIA I0-IIA 0 ） 图像中 B亮、 A暗。成像系统由物镜、中间镜、投影镜与样品室构成，作用是安置样品、放大成像。1物镜成一次像， 决定透射电镜的分辨本领，要求它有尽可能高的分辨本领、足够高的放大倍数和尽可能小的像差。通常采用强激磁，短焦距的物镜。放大倍数较高，一般为100300倍。目前高质量物镜分辨率可达0.1nm左右。物镜的光栅不仅可减少球差、像散和色差的作用，还能提高图像的衬度。2中间镜 成二次像，弱激磁的长焦距变倍透镜，020倍可调。3投影镜短焦距强磁透镜，最后一级放大像，最终显示到荧光屏上，称为三级放大成像。具有很大的景深和焦长。成像系统样品在物镜的物平面上，物镜的像平面是中间镜的物平面，中间镜的像平面是投精选学习资料 - - - - - - - - - 名师归纳总结 - - - - - - -第 6 页，共 7 页个人资料整理仅限学习使用影镜的物平面，荧光屏在投影镜的像平面上。物镜和投影镜的放大倍数固定，通过改变中间镜的电流来调节电镜总放大倍数M。M越大，成像亮度越低，成像亮度与M2成反比。高性能 TEM 大都采用 5级透镜放大，中间镜和投影镜有两级。放大成像操作：中间镜的物平面和物镜的像平面重合，荧光屏上得到放大像。电子衍射操作：中间镜的物平面和物镜的背焦面重合，得到电子衍射花样。TEM 图像分为显微像和衍射花样。前者是透射电子成像，后者为散射电子成像。如何得到显微像？衍射像？透射束像平面 一次显微像电子 样品物镜衍射束背焦面 第一级衍射花样像平面显微像调整中间镜 I使物平面与物镜重合 投影镜 荧光屏背焦面衍射花样题目： 1、扫描电镜、透射电镜、电子探针的工作原理并进行比较。2、影响透射电镜分辨率的主要因素。3、分析型透射电子显微镜的主要组成部分是哪些？它有哪些功能？在材料科学中有什么应用？4、球差、像散、色差的含义及产生的原因。5、分析电子衍射与X射线衍射有何异同？6、电子与物质作用后产生的各种物理信号的含义、特点及应用。精选学习资料 - - - - - - - - - 名师归纳总结 - - - - - - -第 7 页，共 7 页