光罩版制作工艺简介.ppt
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1、2017-09-18吴焕光罩版制作工艺简介铬版制作简介0504030201掩膜版的分类 铬版原材结构 掩膜制作流程品质特性与检验 铬版存放要求 铬版:(精度高、耐用、价格高)干版(精度适中、耐用性适中、价格适中)菲林(精度低、不耐用、价格低)凸版(APR)版(主要用来转移PI液等)1 1、掩膜版的分类、掩膜版的分类2 2、铬版原材结构、铬版原材结构从膜面看:表观看起来比较暗,呈深褐色从非膜面(玻璃)看:表观看起来银亮色,可以清楚看清反射物体类似于镜子一样光阻氧化铬铬基板通常是高纯度,低反射率,低热膨胀系数的石英玻璃。铬版的不透光层是通过溅射的方法镀在玻璃下方厚约700A的铬层,铬的下方还有一层
2、由铬的氮化物或氧化物形成的薄膜其作用是增加铬与玻璃的粘附力。选择铬膜是因为它的沉积与刻蚀相对比较容易,而且对光线完全不透明。铬版原材玻璃,依材质分类:苏打玻璃、石英玻璃、硼硅玻璃;1.硼硅玻璃,优点不突出,很少使用;2.石英玻璃的硬度、膨胀系数都远优于苏打玻璃,一般用在对精度要求较高的产品上;3、掩膜制作流程、掩膜制作流程掩膜版的图像形成流程(除曝光外,其它与一般的黄光过程类似)曝光过程:掩膜版的曝光过程与一般产品的的曝光差异最大的地方,就是一般的曝光,都是整版一次性完成;而掩膜版的精度要求非常高,需要使用激光束(或电子束)逐行扫描的方式来完成,因此,曝光一片掩膜版,需要相当长时间。4、品质特
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- 光罩版 制作 工艺 简介
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